2025-03-19 05:06来源:本站
阿姆斯特丹(路透社)-最大的半导体设备制造商asml周一表示,它已经与比利时芯片研究公司Imec一起为其高NA EUV光刻设备开设了一个测试实验室。
该实验室位于荷兰费尔德霍芬,经过多年的建设,将使领先的芯片制造商和其他设备和材料供应公司有机会尽早使用这一价值3.5亿欧元(3.8亿美元)的工具,这是同类工具中的第一个。
ASML在光刻设备市场占据主导地位。光刻设备是芯片制造过程中的核心步骤,在这个过程中,光束被用来制造芯片的电路。
在芯片制造商中,只有台积电(TSMC)、三星(Samsung)、英特尔(Intel)以及存储器专家SK海力士(SK Hynix)和三星(Samsung)能够使用ASML当前一代的极紫外线或EUV机器进行生产。
新的高NA工具允许高达60%的分辨率提高,并有望导致新一代更小,更快的芯片。
ASML周一重申,预计客户将在2025-2026年开始使用该工具进行商业生产。
迄今为止,ASML只向美国的英特尔(Intel)交付了另外一台测试机器,后者计划在2025年将该工具用于其14A工艺。
阿斯麦有十多个EUV设备的订单,但其最大的EUV设备客户台积电(TSMC)表示,预计将于2025年投产的A16芯片不需要使用High NA工具。
(1美元=0.9223欧元)
(托比·斯特林报道;编辑:柯尔斯滕·多诺万)
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